TFT-LCD texnologiyasi va jarayoni
May 14, 2018
Yupqa kino transistor suyuq kristalli displey (TFT-LCD) odatda ikkita tayyor mahsulotga parallel ravishda ishlanadi. Asosiy jarayon quyidagilar:
To'g'ridan-to'g'ri ajratilgan rang filtri qatlamlari old shisha substrat / rang filtri substrati jarayonida hosil bo'ladi.
Yupqa kino substrati jarayonida pixel nazorati uchun ishlatiladigan nozik kino transistorli suyuq kristall (TFT) va boshqa elektron komponentlar shakllanadi. Har bir piksel odatda uch nozik kino tranzistor suyuq kristallari (TFTs) ga mos keladi va har piksel bir pikselni tashkil etuvchi "rang nuqtasini" nazorat qiladi. Yupqa qatlam hosil qilish jarayonida yarim Supero'tkazuvchilar ishlab chiqarish texnologiyalari kabi CVD, Etch va PVD texnologiyalari qo'llaniladi. Bunday jarayonlar bir necha marta takrorlanishi kerak va doimiy kino qatlami funktsional elementni shakllantirishi mumkin (2-rasm).
Ushbu
Ikki substrat biriga birlashtirilgan va suyuq kristall materiallar o'rtasiga AOK qilinadi.
Nihoyat, yoritish va haydovchi elektroniği TFT-LCD modulini yaratish uchun o'rnatiladi.
